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          Product

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          Retsch MM200研磨儀

          簡要描述:MM200的碾磨罐在水平方向上進行圓弧式徑向振動。罐內的球體由于其慣性作用對位于光滑的碾磨罐內壁上的樣品進行帶有高能量的撞擊,并以此粉碎樣品。碾磨罐的轉動加上碾磨球的運動對樣品產生了高強度的混合作用。通過使用多個小球甚至可以進一步的提高混合的效果。當使用很多個小球時(如玻璃球),生物細胞就可以被破碎了。球與球之間的摩擦撞擊作用可以有效導致細胞的破碎.

          基礎信息

          產品型號

          廠商性質

          代理商

          更新時間

          2025-03-11

          瀏覽次數

          1475
          詳細介紹
          品牌Retsch/德國萊馳批次研磨量0.2-20ml
          出樣粒度10μm進樣粒度6mm
          價格區間5萬-10萬出料粒度0.01mm以下
          樣品適用多種樣品儀器種類研磨機
          產地類別進口應用領域環保,化工,生物產業,制藥/生物制藥,綜合

          Retsch MM200研磨儀主要特點:

          快速、高效的碾磨與均質化處理 
          樣品的處理流量高,因為所需要的碾磨時間很短且有雙碾磨罐 
          數字預設碾磨時間和振動頻率,產生具有可重復性的樣品制備結果 
          有多種碾磨罐可供選擇 
          安全的濕磨,無材料損失,絲扣旋緊碾磨罐 
          操作簡單方便 
          設有記憶功能,可儲存3個操作程序 
          鎖定已設定的操作參數,可防止意外操作而改變參數 
          一次同時操作2份從0.2到20毫升的樣品 
          進行細胞破碎它可以同時操作20個樣品

          Retsch MM200研磨儀技術參數:

          應用

          粉碎、混合、均化以及細胞破碎

          應用領域

          工程/電子,建筑原料,農業,醫藥品,化學/合成材料,玻璃/陶瓷,生物,食品,環境

          樣品特征

          硬的中硬性軟性的脆性的彈性的含纖維的

          粉碎原理:

          撞擊力,摩擦力

          大進樣尺寸

          ≤ 6 mm

          終出料粒度 *

          ~ 10 µm

          批次加料量*

          max. 2 x 10ml

          研磨平臺數 (可接納研磨罐數)

          2

          振動頻率設置

          數字顯示,3-25Hz (180 - 1500 min-1)

          典型粉碎時間

          30 s - 2 min

          干磨

          濕磨

          -

          低溫研磨

          -

          細胞破碎適配器

          可以。10×2.0毫升

          帶自動中心定位的緊固裝置

          -

          研磨罐種類

          插蓋型

          研磨套件材料

          硬質剛不銹鋼碳化鎢瑪瑙氧化鋯, PTFE

          研磨罐尺寸

          1.5 ml / 5 ml / 10 ml / 25 ml

          粉碎時間設定

          數字顯示,10-99分鐘

          Storable SOPs

          9

          Electrical supply data

          100-240 V, 50/60 Hz

          Power connection

          1-phase

          防護類型

          IP 30

          接受功率

          100 W

          機體尺寸(寬xx縱深)

          371 x 266 x 461 mm

          凈重

          ~ 25 kg

          標準

          CE

           受樣品材料性質和儀器配置/設定的影響

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